| 專利名稱 | 基于兩級可見性平滑濾波的近似柔和陰影繪制方法 | ||
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| 申請號/專利號 | CN201610507279.1 | 專利權人（第一權利人） | 長春理工大學 |
| 申請日 | 2016-06-24 | 授權日 | 2019-04-05 |
| 專利類別 | 授權發明 | 戰略新興產業分類 | 新一代信息技術 |
| 技術主題 | 鏡像|陰影效果|屏幕空間|平滑濾波器|光源|和相機 | ||
| 應用領域 | 3D圖像的加工 | ||
| 意向價格 | 具體面議 | ||
| 專利概述 | 本發明公開一種基于兩級可見性平滑濾波的近似柔和陰影繪制方法。本方法通過對可視場景點的光源可見性以及相機光線經一次反射后確定的非可視場景點的光源可見性進行平滑濾波，并用濾波結果對可視場景點處的光源光照貢獻和相機光線經一次反射后確定的非可視場景點處的光源光照貢獻進行調制，來生成近似柔和陰影效果。本方法能夠繪制出三維場景中的柔和陰影在鏡子中成的柔和陰影鏡像效果。本方法使用比特位來存儲可視場景點和相機光線經一次反射后確定的非可視場景點處的光源可見性值，存儲開銷小。由于本方法的可見性濾波屬于屏幕空間操作，因此不受三維場景復雜度影響。 | ||
| 圖片資料 |
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| 合作方式 | 擬許可 | ||
| 聯系人 | 戚梅宇 | 聯系電話 | 13074363281 |
