| 專利名稱 | 一種制造超大面積納米壓印無縫圖案的裝置及方法 | ||
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| 申請號/專利號 | CN201710990339.4 | 專利權人（第一權利人） | 長春工業大學 |
| 申請日 | 2017-10-22 | 授權日 | 2024-01-02 |
| 專利類別 | 授權發明 | 戰略新興產業分類 | 材料化工 |
| 技術主題 | 機械工程|UV固化|光刻膠|紫外線|物理學|材料科學 | ||
| 應用領域 | 照相制版工藝涂層設備|照相制版工藝曝光裝置|微光刻曝光設備 | ||
| 意向價格 | 具體面議 | ||
| 專利概述 | 本發明涉及一種制造超大面積納米壓印無縫圖案的裝置及方法，涉及紫外納米壓印領域。收卷輥用于將襯底卷收起來，放卷輥用于放出襯底，滾筒壓印裝置位于收卷輥和放卷輥之間，收卷輥與放卷輥工作時保持同步旋轉，涂膠裝置中含有光刻膠，用于在襯底上涂抹一層均勻的光刻膠，滾筒壓印裝置用于將壓印模板上的微小圖案壓印于涂完膠的襯底上，支撐輥一，支撐輥二，支撐輥三，支撐輥四，均為可透光的圓柱形，支撐輥二，支撐輥三，支撐輥四中均放置有紫外固化裝置。優點是精確調控各模板以及紫外燈可固化的距離，能夠制造出超大面積的納米壓印無縫圖案，加入了多個壓印輥同時進行壓印超大型圖案，提高了納米壓印的生產效率。 | ||
| 圖片資料 |
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| 合作方式 | 具體面議 | ||
| 聯系人 | 戚梅宇 | 聯系電話 | 13074363281 |
