| 專利名稱 | 一種可制備超疏水微結構的納米壓印裝置及方法 | ||
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| 申請號/專利號 | CN201910617378.9 | 專利權人（第一權利人） | 長春工業大學 |
| 申請日 | 2019-07-10 | 授權日 | 2023-10-27 |
| 專利類別 | 授權發明 | 戰略新興產業分類 | 材料化工 |
| 技術主題 | 復合結構|微觀結構|硫醇|納米技術|芐硫基|芐基|溫度處理|超疏水|光柵|醇 | ||
| 應用領域 | 照相制版工藝涂層設備 | ||
| 意向價格 | 具體面議 | ||
| 專利概述 | 一種可制備超疏水微結構的納米壓印裝置及方法摘要一種可制備超疏水微結構的納米壓印裝置及方法，首先利用涂膠裝置一、涂膠裝置二將壓印膠芐基硫醇鈀均勻涂抹到襯底一、襯底二表面，然后壓印裝置一、壓印裝置二分別對襯底一、襯底二進行壓印得到帶有縱向光柵結構的襯底一、帶有橫向光柵結構的襯底二，對襯底一進行高溫處理一小時使芐基硫醇鈀光柵轉化為金屬鈀光柵，然后在壓印裝置三的作用下橫向光柵脫離襯底二，并粘附到縱向光柵上形成疊堆結構，再進行一小時的高溫處理使橫向芐基硫醇鈀光柵轉化為金屬鈀光柵，得到超疏水微結構。本發明通過使用輥對輥壓印，使用納米壓印與化學相結合的方法制備超疏水微結構，可輕易制備出復合結構，避免襯底多次取放，減少制備時間與對準誤差，成本大大降低。 | ||
| 圖片資料 |
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| 合作方式 | 具體面議 | ||
| 聯系人 | 戚梅宇 | 聯系電話 | 13074363281 |
